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當(dāng)前位置:產(chǎn)品中心

    晶圓鍵合檢測/應(yīng)力測試儀

  • 產(chǎn)品規(guī)格

    技術(shù)指標(biāo):

    1.  一次檢測范圍:

    最大:?100mm(僅用于定性無損檢測);?75mm (定量應(yīng)力檢測);

    最?。? 10mm

    2.  檢測分辨率

    圖像分辨率: 500萬像素(用于無損檢測);125萬像素(1224*1024,用于定量應(yīng)力測試);

    空間分辨率: 優(yōu)于 50微米;

    應(yīng)力雙折射分辨率:優(yōu)于3nm;

    3. 檢測精度

    應(yīng)力雙折射:優(yōu)于5nm;

    應(yīng)力:優(yōu)于1.0MPa (基于0.4mm的硅梁,四點彎曲試驗);

    4. 全場檢測速度

    應(yīng)力場檢測:60s (基于像素偏振相機);

    5.  試件平臺移動范圍

    X軸:大于100mm;  Y軸:大于100mm;  Z 軸:大于400mm

    6. 光源指標(biāo)

    功率:溴鎢燈:150W或1177nm激光:0.5W ;

    光斑尺寸:100mm-10mm 連續(xù)可調(diào)(總功率保持不變)。

該設(shè)備主要用于硅晶圓(最大4'') 的試件鍵合質(zhì)量檢測(內(nèi)部隱裂缺陷等)以及整體殘余應(yīng)力場的測試等。
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技術(shù)指標(biāo):

1.  一次檢測范圍:

最大:?100mm(僅用于定性無損檢測);?75mm (定量應(yīng)力檢測);

最小:? 10mm

2.  檢測分辨率

圖像分辨率: 500萬像素(用于無損檢測);125萬像素(1224*1024,用于定量應(yīng)力測試);

空間分辨率: 優(yōu)于 50微米;

應(yīng)力雙折射分辨率:優(yōu)于3nm;

3. 檢測精度

應(yīng)力雙折射:優(yōu)于5nm;

應(yīng)力:優(yōu)于1.0MPa (基于0.4mm的硅梁,四點彎曲試驗);

4. 全場檢測速度

應(yīng)力場檢測:60s (基于像素偏振相機);

5.  試件平臺移動范圍

X軸:大于100mm;  Y軸:大于100mm;  Z 軸:大于400mm

6. 光源指標(biāo)

功率:溴鎢燈:150W或1177nm激光:0.5W ;

光斑尺寸:100mm-10mm 連續(xù)可調(diào)(總功率保持不變)。